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淺述GTEM小室在電磁檢測(cè)當(dāng)中的應(yīng)用

更新時(shí)間:2019-11-14      瀏覽次數(shù):1376
   淺述GTEM小室在電磁檢測(cè)當(dāng)中的應(yīng)用
  GTEM小室構(gòu)成的輻射敏感度測(cè)試系統(tǒng)為小型電子產(chǎn)品的輻射電磁場(chǎng)干擾敏感性提供有力的測(cè)試依據(jù)。測(cè)試系統(tǒng)構(gòu)成:主要由標(biāo)準(zhǔn)信號(hào)源、功率放大器、場(chǎng)強(qiáng)監(jiān)視器、計(jì)算機(jī)及操控軟件和GTEM小室室體組成。
  電磁兼容性的測(cè)量手段主要是由測(cè)試場(chǎng)地和測(cè)試儀器組成。常規(guī)的電磁兼容檢測(cè)方法有屏蔽室法、開(kāi)闊場(chǎng)法、電波暗室法等。
  屏蔽室:在EMC測(cè)試中,屏蔽室能提供環(huán)境電平低而恒定的電磁環(huán)境,它為測(cè)量精度的提高,測(cè)量的可靠性和重復(fù)性的改善帶來(lái)了較大的潛力。但是由于被測(cè)設(shè)備在屏蔽室中產(chǎn)生的干擾信號(hào)通過(guò)屏蔽室的六個(gè)面產(chǎn)生無(wú)規(guī)則的漫反射,特別是在輻射發(fā)射測(cè)量和輻射敏感度測(cè)量中表現(xiàn)更嚴(yán)重,導(dǎo)致在屏蔽室內(nèi)形成駐波而產(chǎn)生較大的測(cè)量誤差。
  電波暗室:通常所說(shuō)的電波暗室在結(jié)構(gòu)上大都由屏蔽室和吸波材料兩部分組成。在工程應(yīng)用中又分全電波暗室和半電波暗室。全電波暗室可充當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)天線(xiàn)的校準(zhǔn)場(chǎng)地,半電波暗室可作為EMC試驗(yàn)場(chǎng)地。電波暗室的主要性能指標(biāo)有“靜區(qū)”、“工作頻率范圍”等六個(gè)。但建造電波暗室的成本、難度均相當(dāng)高,因?yàn)榘凳业墓ぷ黝l率的下限取決于暗室的寬度和吸收材料的長(zhǎng)度、上限取決于暗室的長(zhǎng)度和所充許的靜區(qū)的小截面積。且由于吸波材料的低頻特性等原因,總的測(cè)試誤差有時(shí)高達(dá)幾十分貝。
  由于開(kāi)闊場(chǎng)、屏蔽室和電波暗室的部分缺點(diǎn),1974年美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)局的專(zhuān)家首先系統(tǒng)的論述了GTEM小室,其外形為上下兩個(gè)對(duì)稱(chēng)梯形。GTEM小室具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、檢測(cè)方法簡(jiǎn)便等特點(diǎn)。標(biāo)準(zhǔn)GTEM小室的測(cè)量尺寸大約限定在設(shè)計(jì)的zui小工作波長(zhǎng)的四分之一范圍,但對(duì)于小尺寸的被測(cè)件,可以滿(mǎn)足測(cè)試的要求和技術(shù)指標(biāo)。
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